隨著電力電子器件市場對酸腐蝕硅片的需求量的增加，如何制備光澤度較好的酸腐蝕硅片越來越受到關(guān)注。為了準確的測定酸腐蝕硅片光澤度，提升酸腐蝕硅片的外觀光澤品質(zhì)，滿足市場對酸腐蝕硅片光澤度測需求，就可以使用光澤度儀。本文介紹了光澤度儀在酸腐蝕硅片光澤度測定中的應用。

酸腐蝕硅片光澤度要求：

硅單晶片的表面加工工藝一般分為研磨片、腐蝕片、拋光片等主要成型工藝，由于最終的使用目的不同，以上三種類型的硅片應用在不同的領(lǐng)域；研磨片一般是在切片的基礎(chǔ)上雙面研磨50-70um，以去除切片時表面留下的線痕等缺陷；腐蝕片主要是去除研磨片加工時形成的損傷層，常規(guī)工藝一般去除30um，酸腐蝕片表面光澤度一般在80-120Gs；拋光片是為了改善腐蝕片的平坦性，通過機械化學拋光進一步去除損傷層，使硅片表面達到鏡面效果，有較好的光澤度和較小的粗糙度。

近年來，有些產(chǎn)品對硅片表面光澤度要求越來越高，其主要是應用硅片表面的鏡面效果；在聚焦時降低能耗，一些生物醫(yī)學領(lǐng)域制造芯片，以及能源領(lǐng)域的可控硅等用途，因腐蝕片很難達到較好鏡面效果，所以這些領(lǐng)域通常使用拋光片；拋光片有較高的表面平整度，較小的粗糙度，較好的鏡面效果；但拋光片對加工設(shè)備、加工環(huán)境和清洗方式、化學輔料等要求較高，相應成本也會較大，這些領(lǐng)域使用拋光片不僅質(zhì)量過剩，而且增加了成本負擔。為了降低成本，提高硅片表面光澤度，提高工藝技術(shù)越來越迫切，隨著工藝技術(shù)進步，酸腐片的表面光澤度的改善已經(jīng)得到顯著的提高，漸得到改善。為了準確的測定酸腐蝕硅片光澤度，提升酸腐蝕硅片的外觀光澤品質(zhì)，就可以使用光澤度儀。

光澤度儀在酸腐蝕硅片光澤度測定中的應用：

傳統(tǒng)酸腐蝕硅片光澤度的評定方法是通過目視法進行評定，目視評定法屬于一種經(jīng)驗評定方法，它是以實踐中積累的經(jīng)驗，通過目視檢驗來評定，往往受到檢驗環(huán)境照度、檢驗人員的視覺和經(jīng)驗等因素影響，容易產(chǎn)生干擾而造成評定結(jié)果的誤差。為了更加準確、客觀，且定量的評定酸腐蝕硅片的光澤度，我們就可以采用光澤度儀。

光澤度儀測量酸腐蝕硅片的光澤度一種采用光學法客觀測量的方式，它可以有效的避免因為觀察者主觀原因?qū)е碌墓鉂啥仍u定的誤差；并且以數(shù)值的方式呈現(xiàn)，用戶可以更加輕松的判定酸腐蝕硅片光澤度的差異。這里推薦使用三恩時YG268光澤度儀。YG268是一款高精度光澤度計，是參照國際標準ISO2813和中國國家標準GB/T9754設(shè)計制造的光澤度測量儀器，具有自動檢查校正標準板的功能，配有高端品質(zhì)管理軟件，滿足JJG696一級工作光澤度計要求。具體的測量方法如下：

1.儀器開機

通常我們的光澤度測試儀開機鍵就是測量鍵，長按測量鍵就可以開機！

2.儀器校準

（1）標準板有污損，請用專用鏡頭布把標準板擦干凈，然后把主機扣入底座。

（2）主機未緊貼標準板，請重新扣入底座。

（3）環(huán)境溫度發(fā)生重大變化，應在儀器溫度與環(huán)境溫度趨于相近，并確認儀器測試口內(nèi)的透鏡和底座的標準板沒有結(jié)露后，重新開機測量。

排除以上原因，主機重新扣入底座，儀器再次自診斷，如果故障排除，顯示“OK”，自動進入自校準模式。

3.選擇測量模式

為了應對不同的使用環(huán)境，YG268光澤度測量儀設(shè)置了多種模式，用戶可以根據(jù)自己的需求自行選擇。

4.開始測量

測量時，將光澤度儀測量口徑緊貼待測樣品表面，不留空隙，避免外界光線的干擾。取多點測量，計算出光澤度測量平均值，然后根據(jù)相關(guān)行業(yè)標準或企業(yè)標準進行評定，查看酸腐蝕硅片光澤度是否符合要求。